立法院院会今天三读修正通过专利法部分条文，将专利申请的优惠期从现行6个月延长到12个月，保障专利权人权益；另外也将得适用优惠期的公开态样，放宽为不限制如何公开。
提案修法的民主进步党籍立法委员管碧玲在提案说明指出，现行法规定，优惠期仅6个月、限制须以特定态样公开发明内容，以及申情时同时声明等要件，均对申请人造成限制。
管碧玲说，反观目前企业及学术机构，常因各种商业或学术活动，在提出发明申请案前即以多元型态公开其发明，现行优惠期相关规定有必要适度放宽，以维护申请人就其发明内容取得专利保护的可能性，因此参考美国专利法、日本特许法以及韩国专利法等，提出修法。
管碧玲在法案完成三读后发言表示，这次修法最主要将专利申请的限制从6个月延长到12个月，保障专利权人的权益，以及将得适用优惠期之公开态样放宽为不限制如何公开；另外也删除须于提出专利申请案同时声明主张优惠期的程序要件，让申请程序更为便捷。
2016-12-30 16:59中央社 台北30日电
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